Введение на тему Физико-химические и электрофизические процессы при формировании электроискровых покрытий

Физико-химические и электрофизические процессы при формировании электроискровых покрытий являются важной областью исследований в материаловедении и электрохимии. Электроискровые покрытия широко применяются в различных отраслях промышленности, таких как автомобильная, аэрокосмическая, энергетическая и другие, благодаря их уникальным свойствам, таким как повышенная твердость, износостойкость и коррозионная стойкость. В данной статье мы рассмотрим основные физико-химические и электрофизические процессы, которые происходят при формировании электроискровых покрытий. Основной процесс, лежащий в основе формирования электроискровых покрытий, - это электроискровая обработка. Электроискровая обработка осуществляется путем применения электрического разряда между электродами, что приводит к высокой температуре и давлению в зоне разряда. Во время электроискровой обработки происходит ряд физико-химических процессов. Во-первых, происходит ионизация газа в зоне разряда, что приводит к образованию плазмы. Плазма обладает высокой энергией и способна взаимодействовать с поверхностью обрабатываемого материала. В результате этого взаимодействия происходит абляция поверхностного слоя материала, что позволяет удалить загрязнения и окисленные слои. Кроме того, в процессе электроискровой обработки происходит термическое воздействие на поверхность материала. Высокая температура в...